MALDI 在样品(常与待测物混合)表面均匀喷涂一层有机基质(如 DHB、CHCA),干燥后形成基质-分析物共结晶。脉冲激光照射时,基质吸收光子能量并迅速汽化,带动共结晶中的待测分子解吸进入气相,并在过程中发生软电离,生成准分子离子。由于能量主要由基质吸收,待测分子得以较完整地保留分子离子信息。
激光解吸产生的离子被质量分析器(多为 TOF 或 MALDI-TOF)采集,每个激光作用点对应一张全质谱。在成像模式下,激光按栅格逐点扫描组织切片,即可重构分子的空间分布。基质的种类、浓度、喷涂均匀度与共结晶质量,直接决定信号强度与图像重复性。
MALDI 成像是空间蛋白质组与脂质组的重要工具,广泛用于肿瘤组织分子分型、药物分布、脑与植物组织代谢/脂质映射等。其高通量(TOF 快采集)、宽质量覆盖与成熟软件生态,使其在组织尺度成像中占据主导地位。
常用基质各有侧重:DHB(2,5-二羟基苯甲酸)常用于脂质与代谢物、背景相对可控;CHCA(α-氰基-4-羟基肉桂酸)常用于蛋白与多肽。基质选择需结合目标分子质量区与背景表现反复优化。
常规 MALDI 成像多在真空下进行,空间分辨率通常处于数十微米量级,足以回答组织微区层面的问题。为进一步提升性能,出现了多种改进构型:AP-SMALDI(常压 MALDI)将制备移至常压,简化流程;t-MALDI(透射模式)从样品背面入射激光,减少表面电荷积累、提升离子产额;MALDI-2 / t-MALDI-2 引入后电离(真空紫外光再次电离中性解吸物),显著提升灵敏度。
| 构型 | 特点 | 主要收益 |
|---|---|---|
| 常规 MALDI | 真空、需基质 | 成熟、覆盖广 |
| AP-SMALDI | 常压、需基质 | 简化制备 |
| t-MALDI | 背面入射激光 | 离子产额提升 |
| MALDI-2 | 后电离增敏 | 灵敏度提升 |
MALDI 的主要局限来自基质本身:基质峰大量出现在低质量区(m/z < 500),与药物、代谢物等小分子区重叠,造成背景干扰;样品需真空、需喷涂与冻存切片,前处理是主要成本与变异来源。此外不同组织、不同批次的基质结晶一致性,需要方法学严格控制。
针对「小分子基质干扰」,业界发展出免基质路线(如新策源 LDPI 通过激光/光化学电离实现无需喷涂基质)、特殊低背景基质或纳米结构表面等缓解方案。若研究重点是药物/代谢物小分子,应优先考虑免基质或低背景策略。
MALDI 并非孤立存在。在实际项目中,常以 MALDI 负责蛋白/脂质大范围成像,以 DESI 或 LDPI 补足常压免基质的小分子覆盖,以 SIMS 攻克纳米级元素/小分子问题。多源互补已成为复杂组织系统级解析的常态。
对于已拥有主流质谱(Agilent/SCIEX/Thermo)的用户,若希望在不更换主机的前提下补充免基质常压成像能力,可评估新策源 LDPI/DPI 外接方案,与既有 MALDI 路线形成互补。

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