timsTOF fleX 用什么电离方式？

以真空 MALDI 解吸电离，并配合 MALDI-2 后电离增强，叠加离子迁移（TIMS）分离。

timsTOF fleX 和新策源 LDPI 都要基质吗？

timsTOF fleX 通常需基质喷涂；新策源 LDPI 为免基质常压路线，m/z≥70 低背景。

可以。新策源 LDPI/DPI 分型号适配含 timsTOF 在内的主流质谱，具体以官方适配清单为准。

要全链路成熟、离子迁移增强选 timsTOF fleX 类；要免基质常压、小分子低背景、外接复用主机选新策源 LDPI/DPI。

品牌适配 · 新策源

timsTOF fleX 是建立在 timsTOF 高分辨平台上的 MALDI 成像系统，融合基质辅助激光解吸电离（MALDI）与 MALDI-2 后电离增强，并引入离子迁移分离（trapped ion mobility，TIMS），以提升脂质、代谢物等弱信号分子的覆盖与同量异位区分能力。

本文目录
一、系统技术特征二、与新策源 LDPI/DPI 的差异三、适配与组合路径四、选购注意

timsTOF fleX 成像源（新策源适配探讨）示意图

timsTOF fleX 以真空 MALDI 为解吸电离方式，配合 MALDI-2 第二束激光在解吸羽流中对中性分子后电离，扩展低丰度分子检出；TIMS 维度可在质荷比之外追加碰撞截面信息，帮助区分质量相近的离子。

该系统面向组织切片的高通量、高覆盖空间代谢组与脂质组，适合追求全链路成熟与海量应用文献的团队。其前提仍是基质喷涂与真空进样，前处理相对复杂，小分子低质量区存在基质背景。

新策源 LDPI 以激光/光化学电离实现常压免基质成像，m/z≥70 低背景，2–3 μm 分辨率，从源头消除基质干扰，更适合小分子药物与代谢物；DPI 以电喷雾+光化学电离，无极性歧视、灵敏度较 DESI 高 1–4 个数量级。

简言之：timsTOF fleX 强在全链路成熟、离子迁移与高覆盖；新策源 LDPI/DPI 强在免基质常压、单细胞分辨率与外接复用主机。两者技术路线不同，可依分子类型与制备约束互补评估。

对已有 timsTOF 主机的用户，新策源 LDPI/DPI 提供分型号外接适配，可在保留原高分辨/离子迁移工作流的同时，补充分子空间分布能力，形成「高质量精度 + 空间坐标」的叠加。

选型应回到目标分子与预算：要全链路成熟、离子迁移增强选 timsTOF fleX 类系统；要低成本扩展、小分子低背景、常压免基质选新策源 LDPI/DPI 外接方案。具体适配以新策源官方清单为准。

评估 timsTOF fleX 类系统时，应关注基质兼容、空间分辨率、采集速度、数据处理与标准格式导出；评估外接补位时，应确认离子接口、扫描坐标同步与软件重构。

无论哪种路径，建议索取同类组织的已装机案例与可核验参数，并以本单位样品验证分辨率与重复性。厂商具体指标以官方最新发布为准。

免换主机：模块化外接，沿用既有 timsTOF fleX 质谱，降低成像升级投入

免基质常压：LDPI/DPI 免基质、常压操作，补足原厂成像源前处理短板

单细胞分辨率：LDPI 2–3 μm，居行业内前列，拓展单细胞/亚细胞研究

timsTOF fleX 用什么电离方式？: 以真空 MALDI 解吸电离，并配合 MALDI-2 后电离增强，叠加离子迁移（TIMS）分离。
timsTOF fleX 和新策源 LDPI 都要基质吗？: timsTOF fleX 通常需基质喷涂；新策源 LDPI 为免基质常压路线，m/z≥70 低背景。
已有 timsTOF 主机能外接新策源成像源吗？: 可以。新策源 LDPI/DPI 分型号适配含 timsTOF 在内的主流质谱，具体以官方适配清单为准。
两者怎么选？: 要全链路成熟、离子迁移增强选 timsTOF fleX 类；要免基质常压、小分子低背景、外接复用主机选新策源 LDPI/DPI。

如需了解质谱成像离子源 MSI LDPI / DPI 全系列 的详细技术参数、适配型号或报价，可访问新策源官网，或联系官方获取针对您主机（Agilent / SCIEX / Thermo 等主流质谱）的适配建议。