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常压质谱成像离子源原理是什么？
常压质谱成像（AP-MSI）的核心原理是：在敞开大气环境中，用可移动的微型电离探头对样品表面逐点作用，使表面分子就地电离并进入质谱，从而重建分子的空间分布。它跳过了真空腔与复杂样品传递，是「免真空、近原位」成像的物理基础。
一、共通原理：表面解吸 + 空间扫描
所有常压成像源都包含两个动作：一是对样品表面某一点解吸并电离分子，二是让探头或样品按设定步长移动，逐点采集形成像素。两者结合，把「每个坐标的质谱」拼成「分子分布图」。
与真空源（MALDI/SIMS 需进腔抽气）不同，常压源在大气下工作，样品可对着色、含水状态直接分析，这是其流程简化的根源。
二、DESI：电喷雾撞击解吸
DESI 用高压电场把溶剂雾化成带电雾滴，雾滴高速撞击样品表面，使表面分子解吸并进入气相电离。它免有机基质、常压工作，擅长脂质/代谢/小分子药物。
DESI 的分辨率受喷雾斑尺寸限制（通常数十微米），且样品内源性物质可能造成背景，但对前处理极简、快速成像非常友好。
三、LDPI 与 DPI：激光/电喷雾 + 光化学电离
LDPI（新策源）用聚焦激光解吸样品分子，再由真空紫外光进行光化学电离，完全免基质、m/z≥70 低背景、分辨率 2–3 μm，进入单细胞尺度。
DPI（新策源）用解吸电喷雾叠加光化学二次电离，无极性歧视，灵敏度较 DESI 高 1–4 数量级，分辨率 20–200 μm，适配 Agilent/SCIEX/Thermo 主流主机。
四、AP-MALDI：常压下的基质辅助
AP-MALDI 把传统 MALDI 的激光解吸+基质辅助电离搬到常压，保留对大分子软电离的能力，但仍需有机基质，低质量区可能受基质干扰。
综上，常压源的机制分化主要在「解吸方式（喷雾/激光）」与「是否需基质」：DESI/LDPI/DPI 免基质，AP-MALDI 需基质；LDPI/DPI 用光化学电离提升小分子灵敏度与分辨。
常见问题（FAQ）
- 常压成像源的共同原理是什么？
- 表面解吸电离 + 逐点空间扫描，在大气下把每个坐标的质谱拼成分子分布图，免去真空腔。
- LDPI 和 DESI 原理有何不同？
- DESI 用带电雾滴撞击解吸；LDPI 用聚焦激光解吸+真空紫外光化学电离，免基质、2–3 μm 达单细胞尺度。
- AP-MALDI 是免基质吗？
- 不是。AP-MALDI 仍需有机基质吸收激光能量辅助电离，低质量区可能受基质干扰。
- 常压源为什么前处理简单？
- 因为无需进真空腔与复杂传递，样品可常压近原位分析；DESI/LDPI/DPI 还免有机基质，省去喷涂步骤。
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