技术科普 · 质谱成像

常压成像离子源(Ambient Imaging Ion Source)

常压成像离子源在大气环境下直接对样品表面逐点电离,无需真空腔与复杂样品传递。DESI、AFADESI、LDPI、DPI 与 AP-MALDI 均属此类,共同优势是简化前处理、支持近原位分析。
本文目录
一、路线概览二、免基质与背景三、选型要点
成像离子源:在切片上逐点解吸/电离并送入质量分析器 组织切片 电离束 成像离子源 质量分析器 逐像素扫描使每个空间位点都对应一张全质谱
常压成像离子源(Ambient Imaging Ion Source) 示意图

一、路线概览

常压成像源包含多种物理机制:DESI/AFADESI 用带电雾滴撞击解吸;LDPI 用激光解吸+光化学电离;DPI 用电喷雾+光化学电离;AP-MALDI 将基质解吸移至常压。它们在「免真空」上一致,在是否需基质、分辨率与分子覆盖上分化。

这种分化使常压源能覆盖从组织尺度(DESI/DPI)到单细胞尺度(LDPI 2–3 μm)的不同需求,也为用户按分子类型与制备条件选型提供了空间。

二、免基质与背景

在常压源中,DESI、AFADESI、LDPI、DPI 均不依赖有机基质,低质量区背景干净,适合小分子药物与代谢物;AP-MALDI 仍需基质,低质量区存在基质干扰。

对小分子成像而言,免基质与否直接决定方法可行性。新策源 LDPI 以 m/z≥70 低背景、免基质常压为特征,与 DESI/AFADESI 同属低背景路线但分辨率更高。

三、选型要点

选型应看分辨率(单细胞需 μm 级)、是否免基质、常压还是真空、能否适配现有主机,以及软件与标准格式支持。常压源适合前处理简化与原位分析,真空源(MALDI/SIMS)适合大分子或极干净背景。

新策源 LDPI/DPI 以外接模块化方式适配 Agilent/SCIEX/Thermo,使用户在既有主机上获得常压免基质或高灵敏成像,与常压路线整体趋势一致。

常见问题(FAQ)

常压成像离子源有哪些?
DESI、AFADESI、LDPI、DPI、AP-MALDI 等均属常压成像离子源,机制与基质需求各异。
常压源和真空源怎么选?
要前处理简化、近原位、小分子低背景选常压免基质(LDPI/DPI/DESI);要蛋白/多肽或极干净背景选真空 MALDI/SIMS。
常压成像需要基质吗?
DESI/AFADESI/LDPI/DPI 不需要有机基质;AP-MALDI 仍通常需要基质。
新策源 LDPI/DPI 是常压的吗?
是。LDPI/DPI 工作于常压敞开环境,LDPI 免基质、DPI 高灵敏无极性歧视。

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