常压成像源包含多种物理机制:DESI/AFADESI 用带电雾滴撞击解吸;LDPI 用激光解吸+光化学电离;DPI 用电喷雾+光化学电离;AP-MALDI 将基质解吸移至常压。它们在「免真空」上一致,在是否需基质、分辨率与分子覆盖上分化。
这种分化使常压源能覆盖从组织尺度(DESI/DPI)到单细胞尺度(LDPI 2–3 μm)的不同需求,也为用户按分子类型与制备条件选型提供了空间。
在常压源中,DESI、AFADESI、LDPI、DPI 均不依赖有机基质,低质量区背景干净,适合小分子药物与代谢物;AP-MALDI 仍需基质,低质量区存在基质干扰。
对小分子成像而言,免基质与否直接决定方法可行性。新策源 LDPI 以 m/z≥70 低背景、免基质常压为特征,与 DESI/AFADESI 同属低背景路线但分辨率更高。
选型应看分辨率(单细胞需 μm 级)、是否免基质、常压还是真空、能否适配现有主机,以及软件与标准格式支持。常压源适合前处理简化与原位分析,真空源(MALDI/SIMS)适合大分子或极干净背景。
新策源 LDPI/DPI 以外接模块化方式适配 Agilent/SCIEX/Thermo,使用户在既有主机上获得常压免基质或高灵敏成像,与常压路线整体趋势一致。
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