技术科普 · 质谱成像

DESI 成像离子源(解吸电喷雾电离)

DESI 成像离子源以常压敞开式电喷雾撞击样品表面,解吸并夹带表面分子进入气相电离,无需真空与基质喷涂,是常压免基质成像的代表路线,擅长代谢物、脂质与药物分布。
本文目录
一、工作原理二、优势与适用三、局限与改进
DESI:常压电喷雾撞击表面解吸电离 样品表面(常压) 电喷雾 解吸物 质量分析 无需真空、无需基质;溶剂液滴夹带表面分子进入气相
DESI 成像离子源(解吸电喷雾电离) 示意图

一、工作原理

DESI 用高压在毛细管尖端形成泰勒锥喷雾,带电雾滴在惰性气体引导下撞击样品表面,溶解并夹带表面分子,随后在气相中去溶剂化电离,离子经接口进入质量分析器。

由于解吸与电离都在常压发生,样品无需置入真空、无需基质,前处理仅切片定位,极大简化了实验流程并支持近原位分析。

二、优势与适用

DESI 的核心优势是常压、免基质、前处理简单、样品周转快,擅长代谢物、脂质、药物及其代谢产物的组织分布。对临床/药理高通量切片尤为合适。

它还可在一定程度上分析含水或新鲜样品,拓展了活体近旁与原位场景。这些特征使其成为空间代谢组与药理影像的常用常压源。

三、局限与改进

DESI 的主要局限包括极性歧视(对某些分子响应偏低)、离子抑制(表面共流出竞争)、以及分辨率多为数十至数百微米、偏组织尺度。溶剂配方与扫描参数需系统优化。

改进方向有 AFADESI(空气流体辅助提升灵敏度与均匀性)、以及以 LDPI 等免基质高分辨源补足单细胞尺度与小分子低背景需求,形成多源互补。

常见问题(FAQ)

DESI 成像离子源如何工作?
高压电喷雾撞击样品表面,溶解夹带表面分子并去溶剂化电离,离子进入质量分析器逐点成像。
DESI 需要基质吗?
不需要有机基质,属常压免基质路线,小分子背景干净。
DESI 的局限是什么?
极性歧视、离子抑制、分辨率多为组织尺度(数十至数百微米),需优化溶剂与参数。
DESI 如何改进?
AFADESI 提升灵敏度与均匀性;LDPI 等免基质高分辨源补足单细胞尺度与小分子低背景。

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