MALDI 依赖有机基质吸收激光能量，但基质自身在 m/z < 500 区域产生大量峰，与药物、代谢物等小分子质量区重叠，形成难以剔除的背景。对小分子成像而言，这往往是方法学的主要噪声来源。
免基质路线绕过这一问题：无需喷涂与共结晶，低质量区背景显著下降，m/z≥70 即可探测，使药物分布、内源代谢物等研究获得更干净的信号。
常见免基质思路包括：激光/光化学电离（如新策源 LDPI）、特殊纳米结构表面辅助、以及以 DESI 为代表的常压解吸电离（本身不依赖有机基质）。其中 LDPI 在常压下工作、免喷涂、m/z≥70 低背景，适合小分子低背景成像。
需要区分的是，部分「免基质 MALDI」依赖特殊表面或金属辅助，仍可能在真空下工作；而 LDPI 的免基质同时伴随常压操作，进一步简化前处理。
免基质成像直接服务于药代动力学组织分布、肿瘤代谢异质性、中药活性成分显微定位等需要干净小分子信号的场景。其简化前处理也提升了样品通量与批次一致性。
新策源 LDPI 以 2–3 μm 分辨率、常压、免基质为特征，在保留小分子低背景的同时提供单细胞/亚细胞尺度，是免基质成像的实用化代表之一。
免基质：无需喷涂有机基质，m/z≥70 低背景，小分子药物与代谢物成像友好
常压操作：在常压敞开环境工作，样品制备简化，支持原位/活体近旁分析
分辨率：2–3 μm 空间分辨率，居行业内前列，进入单细胞/亚细胞尺度
模块化适配：外接式设计，分型号适配 Agilent / SCIEX / Thermo 主流质谱主机
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