MALDI 依赖基质吸收激光能量，但基质分子自身也会被电离并产生 [M+H]⁺、[M+Na]⁺、二聚体等峰，集中在低 m/z 区。这些背景与目标小分子（药物、代谢物多在此区间）重叠，降低信噪比甚至完全掩盖信号。
此外基质喷涂不均会使背景随位置波动，进一步扰乱定量。因此小分子成像对基质背景极其敏感。
根本对策是省去基质。新策源 LDPI（激光诱导光化学电离）与 DPI（双光电离）在免基质、常压环境下工作，从源头消除基质背景，特别适合小分子与代谢物成像。
免基质还缩短前处理、降低分子迁移风险；代价是部分分子的信号增益机制不同于 MALDI，需按待测物验证覆盖度。
若坚持 MALDI，可选择低背景基质配方、降低基质浓度、改进喷涂/升华工艺以减少簇离子，或采用无基质 MALDI（特殊靶面/升华）削弱背景。目标是把低 m/z 背景压到低于目标信号。
还可结合高分辨质量分析器（Orbitrap、Q-TOF）以质量精度区分基质峰与目标峰，但背景过强时仍会限制动态范围。
对小分子、代谢物、药物分布成像，优先评估免基质源（LDPI/DPI）或低背景 MALDI 方案；在注释时善用质量精度与 MS/MS 区分干扰。将背景控制写入标准 SOP。
选型应权衡“免基质的覆盖度”与“MALDI 的成熟度”，并以目标分子的实测信噪比为最终判据。
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