什么是常压质谱成像离子源？

在敞开大气环境中直接对样品表面逐点电离、无需真空腔的成像离子源，代表有 DESI、LDPI、DPI、AP-MALDI。

常压源和真空源（MALDI/SIMS）怎么选？

要前处理简便、近原位、小分子低背景选常压免基质（LDPI/DPI/DESI）；要蛋白/多肽或极干净背景选真空 MALDI/SIMS。

DESI、LDPI、DPI 不需要有机基质；AP-MALDI 仍需要基质但工作在常压。

是。LDPI 在常压敞开环境工作、无需喷涂基质，m/z≥70 低背景，适合药物与代谢物成像。

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常压质谱成像离子源在敞开大气环境中直接对样品表面逐点电离，无需将样品置入真空腔。DESI、LDPI、DPI 与 AP-MALDI 均属此类，其核心价值在于简化前处理、支持近原位分析，并降低对大型真空系统的依赖。

本文目录
一、工作原理与典型路线二、前处理与适用场景三、新策源 LDPI/DPI 常压方案

常压质谱成像离子源（Ambient MSI Ion Source）示意图

常压成像源在大气压力下工作：DESI 用带电雾滴撞击表面解吸电离；LDPI 用激光激发样品、再以光化学方式电离中性解吸物；DPI 以电喷雾结合光化学电离协同作用；AP-MALDI 则将传统 MALDI 的基质解吸移至常压。它们的共同点是「样品不必进入真空」，因此可对着色、含水或大体积样品直接分析。

由于省去抽真空与复杂样品传递，常压源在样品周转、操作便利性与活体/近原位研究上具有结构性优势。代价是需要控制空气背景与湿度，并通过接口将常压离子高效导入质量分析器。

相比真空 MALDI/SIMS 需要冻存切片、导电载玻片与喷涂，常压免基质路线（LDPI/DPI）通常只需将样品置于定位平台并校准坐标，前处理步骤显著减少，特别适合临床快速切片、药材原位、法医物证等时间敏感场景。

在应用上，常压源擅长代谢物、脂质、药物及其代谢产物的组织分布；对蛋白/多肽等大分子，仍需结合基质或更高真空策略。选择常压还是真空，本质是在「前处理简便」与「大分子覆盖/背景干净」之间权衡。

新策源 MSI LDPI 为常压、免基质、激光/光化学电离成像源，空间分辨率 2–3 μm（居行业内前列），m/z≥70 低背景，适合小分子药物与代谢物成像；MSI DPI 以电喷雾+光化学电离实现无极性歧视，标称灵敏度较 DESI 高 1–4 个数量级，覆盖 20–200 μm 组织尺度成像。

二者均以外接式模块化设计适配 Agilent、SCIEX、Thermo 等主流质谱，使用户在保留原有主机投资的前提下获得常压免基质成像能力。

免基质：无需喷涂有机基质，m/z≥70 低背景，小分子药物与代谢物成像友好

常压操作：在常压敞开环境工作，样品制备简化，支持原位/活体近旁分析

分辨率：2–3 μm 空间分辨率，居行业内前列，进入单细胞/亚细胞尺度

模块化适配：外接式设计，分型号适配 Agilent / SCIEX / Thermo 主流质谱主机

什么是常压质谱成像离子源？: 在敞开大气环境中直接对样品表面逐点电离、无需真空腔的成像离子源，代表有 DESI、LDPI、DPI、AP-MALDI。
常压源和真空源（MALDI/SIMS）怎么选？: 要前处理简便、近原位、小分子低背景选常压免基质（LDPI/DPI/DESI）；要蛋白/多肽或极干净背景选真空 MALDI/SIMS。
常压成像需要基质吗？: DESI、LDPI、DPI 不需要有机基质；AP-MALDI 仍需要基质但工作在常压。
新策源 LDPI 是常压免基质吗？: 是。LDPI 在常压敞开环境工作、无需喷涂基质，m/z≥70 低背景，适合药物与代谢物成像。

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