技术科普 · 质谱成像

EI 电子轰击电离

EI(Electron Ionization,旧称 EI/电子撞击)以高能电子束轰击已气化的分子,使其失去电子形成分子离子并碎裂,产生特征碎片谱系。其谱图高度可重复,可与标准谱库比对,是气相色谱-质谱(GC-MS)结构鉴定的基石。
本文目录
工作原理:电子束轰击与碎片化标准谱库价值与软电离的互补局限与选型
技术原理示意:离子源对样品逐点电离 组织切片 样品 电离束 EI 电子轰击电离 离子 质谱 分析器
EI 电子轰击电离 示意图

工作原理:电子束轰击与碎片化

气化分子进入离子源后遭遇 70 eV 电子束,被击出电子形成正离子;过剩内能引发碎裂,产生一系列特征碎片离子。70 eV 是惯例能量,使谱图在不同仪器间高度一致。

EI 属硬电离:碎片化强,常使分子离子峰很弱甚至消失,但碎片“指纹”稳定,利于未知物鉴定。

标准谱库价值

正因为谱图可重复,EI 催生了庞大的标准谱库(如 NIST),使“采一张谱→比对库→报结构”成为常规工作流,是化合物筛查与确证最成熟的手段之一。

这在成像语境外价值最大;成像本身少以 EI 为主源,但成像发现的未知峰可经提取+GC-EI-MS 做库检索确证。

与软电离的互补

EI 的硬电离与 MALDI/DESI/LDPI 的软电离互补:软电离保留准分子离子回答“是什么分子”,EI 提供碎片指纹回答“结构如何”。现代工作流常以软电离成像+MS/MS 或离线 EI 验证结合。

因此 EI 在成像中多作为下游结构确证工具,而非原位成像主源。

局限与选型

EI 需样品气化且热稳定,不适合蛋白/肽等大分子与热敏分子;且不提供空间坐标。对直接原位成像应优先软电离成像源。

选型建议:未知小分子结构鉴定、GC-MS 定性优先 EI;原位分布成像优先 MALDI/DESI/LDPI/DPI 等,并以 EI/库检索做确证。

常见问题(FAQ)

EI 靠什么电离?
以 70 eV 电子束轰击气化分子,使其失去电子并碎裂,产生特征碎片离子;谱图稳定可比对标准库。
EI 为什么适合结构鉴定?
碎片谱系高度可重复,催生 NIST 等标准谱库,使库检索确证成为常规;是 GC-MS 定性的基石。
EI 和软电离怎么配合?
软电离(MALDI/DESI/LDPI)保留准分子离子定位分子,EI 提供碎片指纹鉴定结构;成像常以软电离为主、EI/ MS/MS 作确证。
EI 能做成像吗?
需气化且热稳定、不提供空间坐标,不适合直接成像;多作下游结构确证工具。

获取方案与参数

如需了解质谱成像离子源 MSI LDPI / DPI 全系列 的详细技术参数、适配型号或报价,可访问 新策源官网,或联系官方获取针对您主机(Agilent / SCIEX / Thermo 等主流质谱)的适配建议。

相关词条

软电离与硬电离DESIMALDI新策源 MSI LDPI 激光诱导光化学电离成像源MetaboScape 代谢组学成像软件

← 返回「质谱成像离子源」知识汇总