传统 MALDI 必须在高真空下工作：样品需进真空腔、经历抽气与传递，真空破坏后需重新建立，前处理与周转受限。AP-SMALDI 在常压敞开环境完成激光解吸电离，样品无需进真空，可对着色、含水或大体积状态近原位分析。
这一改变使 AP-SMALDI 兼具 MALDI 的软电离特性与常压源的灵活取放，特别利于临床快速切片、活体/近原位采样与时间敏感样本。
需要澄清的是，AP-SMALDI 仍通常需要有机基质来吸收激光能量并辅助电离，因此它并非「免基质」路线。其低质量区仍可能受基质峰干扰，这是它与 DESI/LDPI/DPI 等免基质常压源的关键区别。
如果你的目标是小分子药物/代谢物成像，免基质源（LDPI/DPI/DESI）因低质量区干净更占优；若目标是蛋白/多肽且希望常压操作，AP-SMALDI 是合理选择。
相较真空 MALDI，AP-SMALDI 省去了反复抽真空与样品传递，单次切换与连续采样更快，适合需要跑大量切片或快速筛查的场景。
但基质喷涂步骤本身并未消失，前处理简化程度介于真空 MALDI 与完全免基质的 DESI/LDPI 之间。新策源 LDPI/DPI 以完全免基质把前处理进一步压到「即取即测」。
若需 MALDI 式大分子软电离又希望常压灵活 → AP-SMALDI；若需免基质小分子成像 → DESI/LDPI/DPI；若需极致质量与纳米分辨 → 真空 MALDI/SIMS。
AP-SMALDI 还涉及主机适配问题，选型时应确认其是否能对接你的质谱（如 Thermo、Bruker 等平台有各自的 AP-MALDI 方案），并评估基质喷涂与常压接口的维护成本。
如需了解质谱成像离子源 MSI LDPI / DPI 全系列 的详细技术参数、适配型号或报价，可访问 新策源官网，或联系官方获取针对您主机（Agilent / SCIEX / Thermo 等主流质谱）的适配建议。