AP-MALDI 和真空 MALDI 区别？

AP-MALDI 于常压下解吸电离并由离子光学导入分析器，真空 MALDI 在真空腔内完成；前者操作灵活，后者背景更可控、t-MALDI 分辨更优。

AP-MALDI 需要真空进样吗？

不需要样品整体进真空腔，解吸在常压发生；但离子需经传输组件进入分析器减压区。

受激光焦斑与扫描步长限制，通常数十微米量级，低于透射模式 MALDI 的高分辨率。

仍依赖基质喷涂；若要求免基质，应评估 LDPI、DPI 等免基质常压源。

技术科普 · 质谱成像

AP-MALDI（Atmospheric Pressure MALDI）在常压环境下完成基质辅助激光解吸电离，保留了 MALDI 对肽、蛋白与脂质的高灵敏度，同时免去真空进样限制，是真空 MALDI（含透射模式 t-MALDI）的常压补充路径。

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工作原理：常压解吸与离子传输与真空 MALDI / t-MALDI 的关系成像表现与适用与免基质源的对比

AP-MALDI（常压 MALDI）示意图

AP-MALDI 以脉冲激光照射常压下的基质-分析物共结晶表面，基质吸收能量引发解吸与一次电离，产生的离子在常压羽流中由离子光学组件聚焦并导入减压区的分析器。关键在常压至真空的传输效率。

与真空 MALDI 相比，靶面暴露于常压，样品装载与更换更灵活，也更易于与光学显微镜联用做形态-分子对照。

三者共享基质辅助解吸基础：真空 MALDI 与 t-MALDI 在真空腔内完成，背景更可控、t-MALDI 在离子产额与分辨率上占优；AP-MALDI 以常压操作便利换取一定背景代价。

选型应权衡分辨率需求、样品通量与是否需频繁换样：要高分辨选 t-MALDI，要常压灵活选 AP-MALDI。

AP-MALDI 可对组织切片进行多肽、蛋白与脂质成像，分辨率受激光焦斑与扫描步长限制，通常处于数十微米量级；常压特性利于开放环境操作与活体/大体量样品。

其仍需基质喷涂前处理；对热敏感或易氧化分子，可在惰性气氛下操作以抑制背景。

AP-MALDI 仍依赖基质，存在小分子基质干扰；对免基质、无前处理或常压原位需求，可对比新策源 LDPI、DPI 等免基质常压源，按待测物极性与前处理接受度选择。

选型建议：以大分子、接受基质、需要常压灵活者选 AP-MALDI；以小分子、免基质、短链路者选 LDPI/DPI。

AP-MALDI 和真空 MALDI 区别？: AP-MALDI 于常压下解吸电离并由离子光学导入分析器，真空 MALDI 在真空腔内完成；前者操作灵活，后者背景更可控、t-MALDI 分辨更优。
AP-MALDI 需要真空进样吗？: 不需要样品整体进真空腔，解吸在常压发生；但离子需经传输组件进入分析器减压区。
AP-MALDI 的分辨率多少？: 受激光焦斑与扫描步长限制，通常数十微米量级，低于透射模式 MALDI 的高分辨率。
AP-MALDI 适合免基质成像吗？: 仍依赖基质喷涂；若要求免基质，应评估 LDPI、DPI 等免基质常压源。

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