基质与基质喷涂

「基质」（matrix）在质谱里有两层完全不同的含义，混在一起谈很容易搞乱，先把它们拆开。

第一层含义在 MALDI（基质辅助激光解吸电离）中。这里的基质是一类小分子有机化合物晶体（如 DHB、CHCA），与分析物共结晶后，能强烈吸收激光能量并传递给分析物，帮助它温和地解吸、电离。基质的种类和浓度直接影响离子产率，是 MALDI 成败的关键变量之一——选错基质，目标分子可能根本出不来。

第二层含义在 ESI/DESI 等分析里，指「基质效应」（matrix effect）。它说的不是某种物质，而是样品中共存组分对目标物电离效率的整体干扰，典型表现就是离子抑制——共存成分抢占电荷或表面空间，使目标物响应被压低（这一机制在《离子抑制》一篇中有详述）。为削弱基质效应，常见做法是样品前处理净化、基质匹配校准或内标校正。

基质喷涂（matrix spraying）则是 MALDI 成像里绕不开的一道工序：把基质溶液均匀喷涂到组织切片表面，形成一层与分析物共结晶的基质层，激光才能稳定地逐点解吸电离。这一步很考验功夫——喷涂的厚薄、结晶的均匀度直接决定成像质量，厚薄不均会带来信号波动，甚至造成假阳性的分布图；同时基质本身在低质量区（m/z 通常小于 500）会产生大量背景峰，掩盖小分子信号。

新策源（Neo Source INSTRUMENT）两款成像源恰好在这一点上做了减法。MSI DPI 采用 DESI 路线、无需基质喷涂；MSI LDPI 采用透射式激光解吸结合后光电离，也不依赖 MALDI 式基质。两者都省去了基质喷涂环节，既缩短样品制备时间、避免喷涂不均带来的假象，又消除了基质峰对低质量区的覆盖——MSI LDPI 因此可探测最小质荷比低至约 70。两款源可加装到 Agilent、AB SCIEX、Thermo 三品牌质谱仪上。