基质结晶会遮挡抗原表位、提高背景荧光/吸收，使 H&E 或 IHC 信号失真。因此「先成像后染色」通常优先采用相邻连续切片，而非同一张已喷基质的片子直接染。
串行切片策略最稳妥：一张喷基质做 MALDI，相邻一张不喷基质做组织学，二者通过显微坐标对齐，将分子图叠加到形态图上。
若必须同一张片，可用适当溶剂洗脱 基质 后再行染色，但洗脱可能带走部分分子或改变形态，需验证抗原保留率。
洗脱方案对小分子成像友好（分子已采集完毕），对需保留蛋白抗原的 IHC 则需谨慎评估交叉影响。
采用 免基质成像源（如 LDPI、DESI、DPI）的样品表面无有机基质，喷基质造成的染色干扰从源头消除，更便于与组织学串行分析。
对需要「一张片同时看分子与形态」的研究，免基质常压源减少了洗脱环节，方法学更简洁。
优先设计为相邻切片串行：成像片与染色片来自同一蜡块/冻块连续切面；若同片操作，固定洗脱 protocol 并设对照。
无论哪种方式，都应在论文/报告中说明对齐与验证方法，保证分子-形态对应关系的可重复性。
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